Samsung India ha annunciato che lancerà un nuovo telefono cellulare serie M il 5 luglio. Tuttavia, la società non ha annunciato ufficialmente il nome specifico di questo smartphone. A maggio, la società ha presentato ufficialmente il Samsung Galaxy M13. Tuttavia, non si sa quale dispositivo svelerà ora l’azienda. Secondo l’ultimo rapporto, il Samsung Galaxy M13 5G presenterà uno schermo LCD FHD+ da 6,5 pollici. Inoltre, questo dispositivo sarà disponibile nei colori blu, marrone e verde.
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In termini di configurazione, il Samsung Galaxy M13 5G verrà fornito con un processore MediaTek Dimensity 700. Questo dispositivo utilizzerà anche una batteria integrata da 5000 mAh che supporta la ricarica a 15 W. Ci saranno 6G di RAM e fino a 128GB di memoria interna. Nel reparto fotocamera, il Samsung Galaxy M13 5G ha una fotocamera frontale da 5 MP in grado di soddisfare le esigenze di selfie e videochiamate. Sul retro, viene fornito con una combinazione di doppia fotocamera che include una fotocamera principale da 50 MP e una fotocamera secondaria da 2 MP.
Samsung e ASML hanno raggiunto un accordo per l’acquisto della macchina per litografia EUV High-NA di prossima generazione
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Secondo BusinessKorea, Lee Jae-yong, vicepresidente di Samsung Electronics, ha concluso la sua visita di lavoro in Europa a metà giugno. Durante questo viaggio, lui e ASML hanno discusso dell’introduzione del produttore olandese di apparecchiature per semiconduttori di prossima generazione. Ha anche dovuto discutere dell’attrezzatura per litografia Extreme Ultraviolet (EUV). Secondo il rapporto, il 14 giugno Lee Jae-yong ha incontrato il CEO di ASML, Peter Wennink e il CTO Martin van den Brink presso la sede di ASML nei Paesi Bassi. Le loro discussioni sono incentrate sull’introduzione delle apparecchiature per litografia EUV che entreranno in produzione quest’anno. La discussione si estende anche ai programmi per il prossimo anno. Il lancio dell’apparecchiatura per litografia EUV ad alta apertura numerica (High-NA) ha raggiunto un accordo.
L’EUV High-NA è la prossima generazione di apparecchiature per litografia in grado di incidere circuiti più fini rispetto alle apparecchiature per litografia EUV esistenti. È considerato un dispositivo rivoluzionario che determinerà il vincitore della competizione per la tecnologia del mercato delle fonderie sub-3nm. Il prezzo unitario delle apparecchiature per litografia EUV High-NA è stimato in 500 miliardi di won (388 milioni di dollari). Questo è circa il doppio del prezzo delle apparecchiature per litografia EUV esistenti.
Intel acquista cinque apparecchiature per litografia EUV
All’inizio di quest’anno, Intel ha annunciato di aver firmato contratti per l’acquisto di cinque di questi dispositivi produrre chip da 1,8 nanometri entro il 2025. TSMC ha anche affermato al Silicon Valley Technology Symposium del 16 giugno che introdurrà apparecchiature per litografia EUV High-NA nel suo processo per la prima volta al mondo nel 2024.
In questa battaglia per le apparecchiature per litografia EUV di prossima generazione, Samsung Electronics sta anche cercando di acquisire le apparecchiature EUV più recenti. Il viaggio d’affari in Europa di Lee Jae-yong è stato principalmente per garantire l’accesso alle apparecchiature per litografia EUV High-NA di prossima generazione, nonché all’ultima generazione di apparecchiature attualmente in produzione. ASML può produrre solo 50 unità EUV quest’anno, con tempi di consegna che vanno da un anno a un anno e sei mesi. La capacità di produzione limitata dell’azienda e i lunghi tempi di consegna hanno alimentato la concorrenza dei preordini per le apparecchiature per litografia High-NA EUV.
Il momento esatto in cui Samsung Electronics applicherà effettivamente le apparecchiature per litografia High-NA EUV al suo processo a semiconduttore non è stato ancora determinato. Tuttavia, considerando i tempi di consegna, Samsung Electronics dovrebbe iniziare a utilizzare effettivamente le apparecchiature per litografia EUV ad alto NA nel 2024.
Alcuni osservatori del settore hanno chiesto maggiore sostegno dal governo sudcoreano per gli investimenti in strutture per semiconduttori. Secondo quanto riferito, Samsung Electronics si è assicurata 18 delle 55 apparecchiature per litografia EUV che prevede di produrre quest’anno. Ciò significa che l’investimento dell’azienda nelle sole apparecchiature per litografia EUV supererà i 4 trilioni di won (3,1 miliardi di dollari).
“Se Samsung acquisterà 10 apparecchiature per litografia EUV ad alto NA, costerà all’azienda più di 5 trilioni di won ($ 3,9 miliardi)”, ha affermato una fonte del settore.
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