Южнокорейский чеболь Samsung Electronics увеличила бюджет капитальных затрат на производство полупроводников, о котором компания сообщила сегодня. Первоначальный план Samsung, предусматривавший инвестиции в производство микросхем до 2030 года, превышал 133 триллиона корейских вон расходов, и сегодня компания увеличила их до 171 триллиона вон, что примерно равно 151 миллиарду долларов. Samsung объявила об увеличении на мероприятии, проведенном в своем кампусе в Пхёнтэке правительством Южной Кореи.
Samsung и SK Hynix получат до 50% налоговых льгот, поскольку Южная Корея увеличивает объем инвестиций в производство чипов
На предприятии в Пхёнтхэке президент Южной Кореи Мун Чжэ Ин подчеркнул, что его стране необходимо наверстать упущенное в мире по производству микросхем. На мероприятии президент Джэ обрисовал планы своей страны на будущее, а заявил, что на мероприятии :
Корея достигнет своей цели-к 2030 году стать ведущим производителем интегрированных устройств в мире, включая системы на кристалле,-сказал президент Мун Чжэ Ин во время мероприятия в комплексе Samsung в Пхёнтхэк.
Основываясь на мощи полупроводниковой промышленности страны, Корея также будет уделять внимание конкурентным преимуществам во всех отраслях, чтобы совершить новый скачок в посткоронавирусную эпоху. Благодаря согласованным усилиям частного сектора и правительства Корея преодолеет волну рисков перестройки глобальных цепочек поставок.
Его заявления были сосредоточены вокруг стратегии корейского правительства K-Semiconductor, согласно которой планируется создать в стране пояс K-Chip, который будет состоять из цепочки поставок полупроводников.
В рамках мероприятия Samsung объявила об увеличении капитальных затрат до 171 триллиона корейских вон. Предыдущее значение было 133 вон в апреле прошлого года, и модернизация предполагает расширение текущих производственных линий Samsung и исследование передовых технологий производства микросхем.
Samsung планирует завершить строительство завода по производству микросхем Pyeongtaek-3 в следующем году. Это предприятие будет производить продукты памяти с использованием 14-нм технологического узла и вычислительные чипы на 5-нм узле с использованием литографии в крайнем ультрафиолете (EUV).
Комментируя текущее состояние сектора микросхем, вице-председатель Samsung и глава подразделения решений для устройств г-н Ким Ки-нам указано :
Вся полупроводниковая промышленность переживает переломный момент, и сейчас самое время наметить план долгосрочной стратегии и инвестиций. В сегменте памяти, где Samsung сохранила бесспорное лидерство, компания продолжит делать упреждающие инвестиции, чтобы стать лидером отрасли.
Samsung также обрисовала в общих чертах свои планы по расширению производства модулей памяти EUV. В производстве микросхем меньшие размеры транзисторов, достигаемые с помощью новейших технологий, таких как 7 и 5 нм, требуют «более тонких» световых волн для печати схем на заранее подготовленных кремниевых пластинах. По сравнению с литографией в глубоком ультрафиолете (DUV), EUV использует меньшие длины волн для изготовления микросхем, что позволяет производителям микросхем использовать больше схем в аналогичной области кремния, чем при использовании DUV.
Важнейшим участником пояса K-Chip будет голландская компания ASML. В настоящее время это единственная компания в мире, способная производить машины EUV. Следовательно, любой производитель микросхем, стремящийся разработать новейшие производственные технологии, должен закупать свое оборудование у ASML. Компания инвестирует 240 миллиардов вон в южнокорейский город Хвэсон, где откроет офис, учебный центр и, что особенно важно, сектор восстановления машин EUV.
Представитель SK Hynix, также присутствовавший на мероприятии, рассказал о планах своей компании. По его словам :
Мы будем инвестировать в производство 8-дюймовых литейных изделий для поддержки разработки и массового производства отечественных фабрик (Fabless, компании по разработке системных полупроводников), а также для продвижения на мировой рынок. Мы можем расширить ассортимент поставок полупроводниковой продукции.