Samsung India ilmoitti tuovansa markkinoille uuden M-sarjan matkapuhelimen 5. heinäkuuta. Yritys ei kuitenkaan julkistanut virallisesti tämän älypuhelimen nimeä. Toukokuussa yhtiö julkisti virallisesti Samsung Galaxy M13:n. Siitä huolimatta ei ole tietoa, minkä laitteen yritys julkistaa nyt. Uusimman raportin mukaan Samsung Galaxy M13 5G:ssä on 6,5 tuuman FHD+ LCD-näyttö. Lisäksi tämä laite on saatavana sinisenä, ruskeana ja vihreänä.
Lue myös: Kiinalaiset älypuhelinbrändit ruokailevat Venäjällä Samsungin ja Applen vetäytyessä pois
Kokoonpanon osalta Samsung Galaxy M13 5G:n mukana tulee MediaTek Dimensity 700-prosessori. Tämä laite käyttää myös sisäänrakennettua 5000 mAh akkua, joka tukee 15 W latausta. RAM-muistia tulee olemaan 6 Gt ja sisäistä muistia jopa 128 Gt. Kameraosastolla Samsung Galaxy M13 5G:ssä on edessä oleva 5 megapikselin kamera, joka vastaa selfien ja videopuheluiden tarpeisiin. Sen takaosassa on kaksikamerayhdistelmä, joka sisältää 50 megapikselin pääkameran ja 2 megapikselin toissijaisen kameran.
Samsung ja ASML pääsivät sopimukseen seuraavan sukupolven High-NA EUV-litografialaitteen ostamisesta
h2>
BusinessKorean mukaan Samsung Electronicsin varapuheenjohtaja Lee Jae-yong päätti liikematkansa Eurooppaan kesäkuun puolivälissä. Tällä matkalla hän ja ASML keskustelivat seuraavan sukupolven hollantilaisen puolijohdelaitteiden valmistajan esittelystä. Hän joutui myös keskustelemaan Extreme Ultraviolet (EUV)-litografialaitteistosta. Raportin mukaan Lee Jae-yong tapasi ASML:n toimitusjohtajan Peter Wenninkin ja teknologiajohtajan Martin van den Brinkin ASML:n päämajassa Hollannissa 14. kesäkuuta. Heidän keskustelunsa keskittyy tänä vuonna tuotantoon tulevien EUV-litografialaitteiden käyttöönottoon. Keskustelu ulottuu myös ensi vuoden suunnitelmiin. Korkean numeerisen aukon (High-NA) EUV-litografialaitteiston lanseerauksesta päästiin sopimukseen.
High-NA EUV on litografialaitteiden seuraavan sukupolven, joka pystyy kaivertamaan hienompia piirejä kuin nykyiset EUV-litografialaitteet. Sitä pidetään pelin muuttavana laitteena, joka ratkaisee kilpailun alle 3nm:n valimoteknologian voittajan. High-NA EUV-litografialaitteiden yksikköhinnaksi arvioidaan 500 miljardia wonia (388 miljoonaa dollaria). Tämä on noin kaksi kertaa nykyisten EUV-litografialaitteiden hinta.
Intel ostaa viisi EUV-litografialaitetta
Aiemmin tänä vuonna Intel ilmoitti allekirjoittaneensa sopimukset viiden näistä laitteista. tuottaa 1,8 nanometrin siruja vuoteen 2025 mennessä. TSMC sanoi myös Piilaakson teknologiasymposiumissa 16. kesäkuuta, että se ottaa High-NA EUV-litografialaitteet prosessiinsa ensimmäistä kertaa maailmassa vuonna 2024.
Tässä taistelussa seuraavan sukupolven EUV-litografialaitteistoista Samsung Electronics pyrkii myös hankkimaan uusimmat EUV-laitteet. Lee Jae-yongin Euroopan työmatkan tarkoituksena oli ensisijaisesti turvata pääsy seuraavan sukupolven High-NA EUV-litografialaitteistoon sekä uusimman sukupolven tällä hetkellä tuotannossa oleviin laitteisiin. ASML pystyy valmistamaan tänä vuonna vain 50 EUV-yksikköä, joiden toimitusajat vaihtelevat vuodesta vuoteen ja kuuteen kuukauteen. Yrityksen rajallinen tuotantokapasiteetti ja pitkät toimitusajat ovat ruokkineet ennakkotilauskilpailua High-NA EUV-litografialaitteistoista.
Tarkka aika, jolloin Samsung Electronics todella käyttää High-NA EUV-litografialaitteita puolijohdeprosessissaan ei ole vielä päätetty. Kun otetaan huomioon läpimenoaika, Samsung Electronicsin pitäisi kuitenkin aloittaa High-NA EUV-litografialaitteiden todellinen käyttö vuonna 2024.
Jotkut teollisuuden tarkkailijat ovat vaatineet Etelä-Korean hallitukselta lisätukea investoinneille puolijohdelaitoksiin. Samsung Electronicsin kerrotaan hankkineen 18 55 EUV-litografialaitteistosta, jotka se aikoo valmistaa tänä vuonna. Tämä tarkoittaa, että yrityksen investointi EUV-litografialaitteisiin ylittää 4 biljoonaa wonia (3,1 miljardia dollaria).
“Jos Samsung ostaa 10 High-NA EUV-litografialaitetta, se maksaa yritykselle yli 5 biljoonaa wonia (3,9 miljardia dollaria), alan lähde sanoi.
Lähde/VIA:
