« 新聞稿 »


NVIDIA、ASML、TSMC 和 Synopsys 為下一代芯片製造奠定基礎

加利福尼亞州聖克拉拉,2023 年 3 月 21 日 ( GLOBE NEWSWIRE) — GTC — NVIDIA 今天宣布了一項突破,將加速計算引入計算光刻領域,使 ASML、TSMC 和 Synopsys 等半導體領導者能夠加速下一代芯片的設計和製造,就像當前的生產流程臨近一樣物理學的極限。

用於計算光刻的新 NVIDIA cuLitho 軟件庫由全球領先的晶圓代工廠台積電以及電子設計自動化領導者 Synopsys 集成進入他們的軟件、製造流程和系統,用於最新一代 NVIDIA Hopper™ 架構 GPU。設備製造商 ASML 在 GPU 和 cuLitho 方面與 NVIDIA 密切合作,併計劃將對 GPU 的支持集成到其所有計算光刻軟件產品中。

這一進步將使芯片的晶體管和電線比現在更細可以實現,同時加快上市時間並提高 24/7 運行以驅動製造過程的大型數據中心的能源效率。

“芯片行業是世界上幾乎所有其他行業的基礎, ”NVIDIA 創始人兼首席執行官黃仁勳說。 “隨著光刻技術達到物理極限,NVIDIA 推出 cuLitho 並與我們的合作夥伴 TSMC、ASML 和 Synopsys 合作,使晶圓廠能夠提高產量、減少碳足跡並為 2nm 及更高工藝奠定基礎。”

cuLitho 在 GPU 上運行,比當前光刻技術(在矽晶圓上創建圖案的過程)提供高達 40 倍的性能飛躍,加速目前每年消耗數百億 CPU 小時的大量計算工作負載。

它使 500 個 NVIDIA DGX H100 系統能夠完成 40,000 個 CPU 系統的工作,並行運行計算光刻過程的所有部分,有助於減少電力需求和潛在的環境影響。

在短期內,晶圓廠使用 cuLitho 可以幫助每天多生產 3-5 倍的光掩模——芯片設計的模板——使用比當前配置低 9 倍的功率。需要兩週才能完成的光掩模現在可以在一夜之間完成。

從長遠來看,cuLitho 將實現更好的設計規則、更高的密度、更高的產量和 AI 驅動的光刻。

行業領導者的支持
NVIDIA 正在與主要合作夥伴合作,以促進這些新技術的快速採用。

“cuLitho 團隊通過移動昂貴的設備在加速計算光刻方面取得了令人欽佩的進展GPU 的操作,”C.C. 博士說。台積電CEO魏。 “這一發展為台積電部署像 i 這樣的光刻解決方案開闢了新的可能性


« 新聞稿結尾 »

Categories: IT Info